描述:非接觸式膜厚測(cè)量?jī)x能測(cè)低至20納米的超薄薄膜,測(cè)量誤差小于1納米,最快每秒可測(cè)100次,重復(fù)測(cè)量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強(qiáng),在振動(dòng)或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。能滿(mǎn)足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學(xué)元件鍍膜、醫(yī)用植入物涂層、汽車(chē)玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測(cè)需求,助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。
非接觸式膜厚測(cè)量?jī)x是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測(cè)量設(shè)備。它能測(cè)低至20納米的超薄薄膜,測(cè)量誤差小于1納米,最-快每秒可測(cè)100次,重復(fù)測(cè)量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強(qiáng),在振動(dòng)或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車(chē)及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域,能滿(mǎn)足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學(xué)元件鍍膜、醫(yī)-用植入物涂層、汽車(chē)玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測(cè)需求,助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。
產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 精準(zhǔn)測(cè)量:支持20nm超薄膜厚檢測(cè),準(zhǔn)確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm,滿(mǎn)足精密檢測(cè)需求;
2. 高速采樣:最-高采樣速度100Hz,適配產(chǎn)線快速檢測(cè),提升測(cè)量效率;
3. 寬光譜覆蓋:采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚;
4. 強(qiáng)抗干擾性:高靈敏度元器件搭配抗干擾光學(xué)系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法,復(fù)雜環(huán)境下測(cè)量穩(wěn)定;
5. 靈活易適配:支持自定義膜結(jié)構(gòu)測(cè)量,設(shè)備小巧易安裝,配套軟件及二次開(kāi)發(fā)包,適配實(shí)驗(yàn)室/產(chǎn)線多場(chǎng)景。
測(cè)試原理
非接觸式膜厚測(cè)量?jī)x基于白光干涉原理工作,光源發(fā)出的寬帶光入射至待測(cè)薄膜表面后,經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會(huì)因光程差產(chǎn)生干涉,干涉信號(hào)中包含薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等關(guān)鍵信息,設(shè)備通過(guò)探頭采集干涉后的反射光譜,對(duì)特定波段范圍內(nèi)的光譜進(jìn)行模型擬合后,即可反演解析出薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)及粗糙度等參數(shù),整個(gè)系統(tǒng)由高強(qiáng)度組合光源提供寬光譜入射光,經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)傳輸至樣品,反射光返回后由高速光譜模塊采集信號(hào),最終通過(guò)上位機(jī)軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。
